网站地图

http://www.syjskj.com- 实用技术科技网


会员登录 会员注册 网站资讯通告:
搜索: 您现在的位置: 实用技术科技网 >> 作业运输 >> 微观结构 >> 正文

控制衬底化学技术光盘,控制衬底化学类资料

  订购本套技术光盘,请记录此编号:1270230 ,光盘包括行业专业技术55份。整套光盘收费230元,全国范围内可免费货到付款。请选择订购方式:
(1) 发送订购单>>点击此处  
(2)  电话订购
 

 

订购本套技术光盘,请记录此光盘编号:1270230

   技术编号             技术名称
1270230-00015-1 一种连续化学气相淀积的方法与装置
1270230-00030-2 一种优化分离栅器件高温化学气相淀积氧化物厚度的方法
1270230-00020-3 用于电镀浴化学剂控制的方法
1270230-00021-4 去除化学氧化物的系统的操作方法
1270230-00033-5 利用无电极电化学腐蚀自停止制作的纳米梁结构与方法
1270230-00004-6 改善化学机械抛光的均匀性
1270230-00037-7 脉冲化学制剂分配系统
1270230-00006-8 一种采用低电场诱导控制湿化学法制备的薄膜取向的方法
1270230-00025-9 用金属电化学填充高纵横比的大型凹入特征的方法、水溶液电镀槽溶液、电镀设备以及系统
1270230-00022-10 集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积方法及设备
1270230-00040-11 电磁场辅助的金属有机物化学气相沉积
0
1270230-00038-12 观察电化学法生长纳米材料的装置及其控制方法
2
1270230-00027-13 氧化锌生长用低压金属有机化学汽相淀积设备
8
1270230-00002-14 液相源雾化微波等离子体化学气相沉积制备薄膜的方法
|
1270230-00028-15 通过化学汽相沉积在晶片上生长外延层的无基座式反应器
8
1270230-00014-16 金属有机物化学气相淀积设备的多层流反应室结构
1
1270230-00035-17 在化学机械抛光期间调节低k对铜除去速率的方法和浆料
5
1270230-00016-18 光刻化学工艺的自适应性热控制
0
1270230-00029-19 一种电化学方法制作硅微通道过程中在微通道结构与衬底之间产生断层的方法
4
1270230-00018-20 用电化学沉积制备锰掺杂的氧化锌薄膜和纳米柱的方法
4
1270230-00013-21 用于化学机械平面化的材料和方法
1
1270230-00024-22 一种用于硅薄膜电池陷光结构研究的化学气相沉积设备
6
1270230-00011-23 氧化锌生长用低压金属有机化学汽相沉积设备及其工艺
1270230-00003-24 用微波等离子体化学沉积工艺形成主要含II和VI族原子的实用沉积膜的工艺
1
1270230-00034-25 化学机械研磨设备及化学机械研磨方法
8
1270230-00007-26 金属氧化物或合金薄膜的化学气相淀积方法及装置
9
1270230-00031-27 高温金属有机化学气相淀积反应器
8
1270230-00017-28 钽喷丝头表面化学气相沉积金刚石薄膜强化方法
2
1270230-00023-29 一种数字微流控技术的电化学传感器芯片
1
1270230-00010-30 计算过度抛光时间和 或最后抛光步骤的抛光时间以控制衬底化学机械式抛光工艺的方法及系统
9
1270230-00036-31 平板式等离子体增强化学汽相淀积设备的反应室结构
0
1270230-00039-32 一种化学机械抛光制程、双氧水的用途和清洗方法
2
1270230-00032-33 用于等离子体增强型化学气相沉积工艺的等离子体感应电荷损坏的控制
3
1270230-00005-34 制备硬质薄膜的电化学沉积方法
0
1270230-00001-35 基于吸氢合金薄膜的电化学微驱动器及其制备方法
1270230-00019-36 液体输送金属有机物化学汽相沉积设备
1270230-00008-37 半导体结构和化学汽相沉积方法
1270230-00026-38 氧化物薄膜生长用金属有机物化学气相沉积反应室
1270230-00012-39 化学气相成长装置及膜成长方法
1270230-00009-40 用于金属有机化学气相沉积系统中的加热装置




相关专题列表
没有相关专题
功能导航
关于我们
关于我们 - 联系我们 - 网站地图 - 版权声明